Фоторезист пленочный 300x500мм
Предназначен для применения в радиоэлектронной промышленности, в частности, для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии, для реализации фотолитографических процессов с последующим химическим травлением и гальваническим осаждением металлов в производстве интегральных схем.
